蝕刻機的原理和工藝流程是什么?

隨著PCBT業(yè)的發(fā)展各種導(dǎo)線之阻抗要求也越來越高，這必然要求導(dǎo)線的寬度控制更加嚴(yán)格。為了使榮信公司的工程管理人員，尤其是負(fù)責(zé)蝕刻工序的工藝工程人員對她刻工序有一定的了解，故媒寫此份培訓(xùn)教材，以期有助于生產(chǎn)管理與監(jiān)控，從面提高我司的產(chǎn)品品質(zhì)。

蝕刻機的基礎(chǔ)原理

(1)蝕刻的目的

蝕刻的目的即是將前工序所做出有圖形的線路板上的未受保護的非導(dǎo)體部分銅蝕刻去，形成線路。

蝕刻有內(nèi)層蝕刻和外層蝕刻，內(nèi)層采用酸性蝕刻，濕膜或干膜為抗蝕劑;外層采用堿性蝕刻，錫鉛為抗蝕劑。

(2)蝕刻反應(yīng)基本原理

酸性氯化銅蝕刻液

1、特性

蝕刻速度容易控制，蝕刻液在穩(wěn)定狀態(tài)下能達到高的蝕刻質(zhì)量

蝕銅量大

蝕刻液易再生和回收

2、主要反應(yīng)原理

蝕刻過程中，CU2+有氧化性，將板面銅氧化成CU+: Cu+ CuCl2→2Cucl

生成的CuCl不溶于水，在過量的氯離子存在下，生成可溶性的絡(luò)離子:

2CuCl+4Cl-→2[CuCl3]2-

隨著反應(yīng)的進行，Cl+越來越多，蝕鋼能力下降，需對的由液再生，使CU+變成CU2+。再生的方法有以下幾種通氧氣或壓縮空氣再生(反應(yīng)速率低)，氯氣再生(反應(yīng)快，但有毒)，電解再生(可直接回收銅，但需電解再生的設(shè)備和較高的電能消耗)，次氯酸鈉再生(成本高，本身較危險)，雙氧水再生(反應(yīng)速率快，易控制)

反應(yīng): 2CuCl+2HCl+H2O2→2CuCl2+2H2O

自動控制添加系統(tǒng):通過控制蝕刻速度，雙氧水和鹽酸的添加比例，比重和液位，溫度等項目，達到自動連續(xù)生產(chǎn)。